平面设计专业的难度排名通常取决于多个因素,包括学校的声誉、申请者的竞争程度、作品集的质量要求以及录取率等。以下是一些在平面设计领域享有盛誉的院校及其申请难度的大致排名:
罗德岛设计学院 (Rhode Island School of Design)
申请难度:4.8
优势专业:服装设计、数字媒体、平面设计、纯艺术
地址:美国罗德岛州
耶鲁大学 (Yale University)
申请难度:4.7
江南大学
排名:4
南京艺术学院
排名:5
苏州大学
排名:11
南京师范大学
排名:16
纽约视觉艺术学院 (School of Visual Arts, SVA)
排名:美国第三(仅次于罗德岛设计学院和帕森斯设计学院)
请注意,这些排名可能会随着时间和各种因素(如申请者质量、录取率变化等)而有所变动。申请者应根据自己的实际情况和目标,综合考虑各学校的特色和申请要求,做出适合自己的选择。


